通过用更高级的曝光光源，来支撑技术进步到下一代。

为了追求更高的分辨率，光源波长从最初的365n，到248n，再到如今pas5500使用的193n。

据王磊对光刻机发展进程的了解，想要从248n进化到193n并不是最难的一步。

用不了几年，尼康、佳能、以及美丽国的gca都会相继走到这一步。

最困难的还是向157n的技术升级。

所有的大厂商都被卡在这一步上。

谁先迈出这一步，便会奠定一超多强的格局，彻底成为光刻机行业的霸主。

拜尔斯也没有预料到王磊的野心会如此的大，刚完成了技术升级，又开始琢磨着下一代光刻机。

“你放心，不管研发中遇到多少困难，我都会全力支持你们的研发！”

说这话的时候，王磊却将思绪飘到了台积电。

那里有一位龙裔科学家，堪称半导体“鬼才”一般的存在。

正是他提出了一种较为大胆的理念——浸没式！

他创造性的提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193n，但通过水的折射，使进入光阻的波长缩小到134n。x33

以前的干式法中，曝光介质用的是空气。

它们的区别在于折射率，193n光源在空气中的折射率为1，在水中折射率为14。

这也就意味着相同光源条件下，浸没式光刻机的分辨率可以提高14倍。