第924章 光刻机大突破(1 / 4)

“今天,我们正式向大家宣布,困扰了业界十多年时间的光刻机之壁,正式被我们AMSL公司破除了。从现在开始,70nm的制程就不再将是光刻机的极限,我们即将进入个位数的光刻机新时代!”此时此刻,面对着台下数以百计的记者,AMSL公司的负责人,用无比激动的声音说道。

2005年7月1号,这一天对于AMSL公司来说,绝对是最值得历史铭记的一天,因为在这一天,AMSL正式召开了新闻发布会,向全球发布了自家公司生产的新品,也是全新的XT系列的第一台产品XT:1700i。

在舞台上上面,这位负责人**澎湃的向查一下所有观众说明这台设备的数据,而记者们也丝毫不吝啬自己的胶卷,纷纷记录下这令人激动的历史一刻。

不过台下比记者更多的其实是各家科技企业的代表们,他们的表情或激动或深沉或有些玩味,不过他们都明白,恐怕整个光刻机市场要就此改写了。

之前说过,从90年代中期开始,光刻机的发展就基本上陷入了停滞状态。因为光源技术的限制,导致人类始终无法生产70纳米制成以下的光刻机,也就无法制作相应的芯片。

芯片之所以拥有恐怖的运算能力,其实就是先在单晶硅上面裹一圈绝缘层,然后再用极细的光线烧掉覆盖下的绝缘层。

就好像把光线变成了笔,直接在单晶硅上面画下了一个又一個的半导体,最终形成了一枚拥有恐怖运算能力的计算机芯片。

在最初的时候,人类画的线是用手画的,细度是毫米级别的,所以一个单晶硅芯片上面只能画几个半导体。

后来变成了经过了精度加工的金属模具来压,但这样线的细度也不过是0.1毫米级别的,顶多只能够画几百上千个半导体而已。

直到有人发现了,可以利用光线在单晶硅上面刻画,于是第1台能够光刻机诞生了,但只能够刻画0.01毫米,也就是10微米左右的线条,在一片单晶硅上面也就是上万个半导体而已。

不过在人类不断的突破下,不断的更换光源和镜头,将光线也变得越来越细,最后也就成了现在的70nm级别制程的光刻机了。能够在一片单晶硅上面刻画上千万的半导体。

但这也顶天了,到90年代中期,人类就发现不管是镜头还是光源,人类都已经突破到极致了。除非能够弄到比激光和紫外线还要细的光源,或者干脆换掉光,用另外一种方式来刻画,否则这就是一个无法突破的死穴。