刻机运行效率没有后世那么高。不过凋刻十片硅片还是非常地简单的，仅仅只是花了6分钟就将硅片凋刻完毕。

硅片凋刻完毕你以为芯片制作就结束了？

这仅仅还只是一个开始而已，接下来要送硅片去清洗，先把未刻胶清洗干净，清洗硅片需要放入超声波机器里清洗，通过特定频率才能将未刻机清洗干净。

将硅片上未刻胶清洗干净后，还要涂上特制的显影液才行，这样才能看到上面的电路图，随后还要硅片送进刻蚀机进行刻蚀。

刻蚀机技术含量相对低很多，长春光机早就制作出来了，而且已经上市量产了。

刻蚀机的工作原理是通过等离子体物理冲击，将未被光刻胶覆盖的氧化膜和下方的硅片刻蚀掉，形成所谓的鳍式场效应晶体管中的鳍。

刻蚀完的硅片还要再进行一次清洗，把翻盖的光刻胶和杂质清洗干净后，还要送进离子注入机才行，利用高速度高能量的离子束流注入硅片，改变其载离子浓度和导电的类型。

简单点来说这一步相当于给你的武器进行附魔，通过离子注入让硅片变得更强。

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